一般来说，半导体 clean room 依照级别被划分为 Class1 至 Class1000000 。（其中，Class1 意味着每立方米 0.1 微米以下的颗粒物数目不得超过 10 个；以此类推，数字越小，级别越高。）
为何在半导体 fab 当中一定要构建一个无尘室呢？
首先，毋庸置疑，是为了防止 wafer 受到污染。通常而言，半导体 fab 制造的产品线宽均处于纳米级水平，根本无法承受任何细微的尘埃、微生物或者其他污染物带来的影响。所以，必须设立无尘室，从而能够对环境中的污染物进行更严格的控制，切实保障生产环境的清洁度。
其次，有效控制湿度和温度。无尘室能够对湿度和温度进行调控，这对于半导体制造过程中所涉及的化学反应以及物理过程来说，是极为关键的。某些特定的过程对环境条件极为敏感，因而需要进行精准的把控。
再次，显著降低静电。静电有可能会损害半导体芯片上那些微小的电路。无尘室通过对环境的控制以及采用抗静电材料，来减少静电的产生。
然后，大幅提高生产效率。在无尘室中，生产过程能够变得更加稳定和具有可预测性，极大程度地减少了由于环境因素导致的生产中断以及质量控制方面的问题，进而有效地提升了生产效率。
最后，充分保护工作人员。无尘室不仅能够保护半导体产品免受污染，同时，也能够保护工作人员免受有害化学物质和工艺的影响。
那么，无尘室到底是怎样运行的呢？半导体洁净厂房通常会采用垂直单向流的方式，通过推出作用将室内被污染的空气排放至室外，以此来实现净化室内空气的目标。
无尘车间空气净化主要分为三个阶段：
第一，利用初中效过滤器进行预处理。通过空调控制温湿度，同时借助其中配备的过滤器对从室外进入室内的新风进行预处理，拦截空气中常见的大颗粒物。此环节所涉及的设备位于无尘车间物理隔离层壁板的外部，预处理完成的空气将会进入无尘车间壁板的内部。
第二，采用风机过滤单元进行深度过滤。风机过滤单元处在无尘车间的内部，密集分布于无尘车间物理隔离层内部的顶端，针对第一阶段预处理后的空气中未处理的其他细微颗粒物、气态分子污染物、微生物进行进一步处理，以满足半导体生产车间对空气极高净化等级的要求。
第三，内部空气持续循环。无尘车间内部的空气循环净化，回风通过高架地板以及回风夹道，被送至风机过滤单元（包含高效/超高效过滤器、化学过滤器等等）重新过滤后送入无尘车间内再次使用。
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