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集成电路无尘车间为什么需要恒温恒湿?-清阳工程

发布时间:2024-11-15 17:17:54

在大规模集成电路(VLSI)生产的光刻曝光工艺当中,掩膜板材料的选取变得非常关键,尤其是在玻璃与硅片的热膨胀系数这一方面。伴随技术的持续演进,对于差异的要求愈发严苛。拿直径100微米的硅片来说,每温度升高1度,线性膨胀就会达到0.24微米,这给保障高精度的生产带来了严峻挑战。故而,必须达成±0.1度的恒温控制,以维系生产环境的稳定性。
 
然而,温度绝非是唯一需要考量的要素。在无尘车间里,特别是对于钠敏感的半导体无尘车间,温度的把控不得超过 25℃,旨在规避人体出汗所引发的潜在污染。与此同时,湿度的管控也极为重要,因为当相对湿度超过 55% RH 时,在冷却水管壁上或许会出现结露现象,这对于精密装置和电路可能会造成各种各样的问题。
 
当相对湿度处于 50% RH 时,还有可能致使金属表面生锈。为解决这一难题,通常会运用除湿机来进行湿度控制,或者采用精密恒温恒湿空调系统对室内的温湿度予以精准调节。如此一来,不但能够维持生产环境的洁净程度,还有利于防止因湿度而导致的金属腐蚀问题。
 
在实际的操作过程中,对于这些高度敏感的生产环境,设备的维护与校准也变得非常关键。定期检查恒温设备的精准度和性能,以及除湿机和空调系统的有效性,是确保生产流程平稳推进的必要举措。通过精心对温湿度进行调控,不但能够提升光刻曝光工艺的稳定性和可控性,同时也有益于延长设备的使用寿命,保证产出的集成电路品质卓越。这一系列的综合举措将有利于推动大规模集成电路制造技术的不断创新与提升。


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