光刻是制造集成电路的关键环节之一。简单来说，它通过使用光掩模和光刻胶在基板上复制电路图案。在这个过程中，基板会涂覆一层硅二氧化层绝缘层和光刻胶。当光刻胶受到紫外线的照射后，它可以很容易地被显影液溶解。随后，在腐蚀处理后，电路图案就会留在基板上。
为了实现高精度制造，无尘室提供了一个相当洁净的环境。这种环境常用于需要高精度制造的产业，如半导体制造、生物技术、精密机械和医疗等。在这些领域中，半导体制造对室内温湿度和洁净度的要求最为严格，必须控制在某个特定范围内，以确保制程不受影响。
为什么光刻区会选择黄光呢？这是因为光刻胶的感光范围通常在200nm至500nm之间。这意味着在这个波长范围内的光线可以引发光刻胶的化学反应。值得注意的是，200nm至500nm的光线包括紫外线、紫光和蓝光，因此在光刻区中，这三种光线都是不能存在的。
半导体无尘室使用黄光的主要原因与微影制程有关。微影制程是半导体制造中的关键步骤之一，它利用光线穿透印有电路图的光罩及光阻，在硅芯片上投印出电路图。在这个过程中，具有二氧化硅绝缘层的硅晶圆会被涂上光阻，并套上带有特定位置孔洞的光罩。当这些硅晶圆受到紫外线的照射时，被光线照射到的光阻会变得容易溶解。随后，使用显影液将特定位置的光阻溶解掉，再进行蚀刻处理。这样，只有特定位置的二氧化硅会被蚀刻掉，其他地方则受到光阻的保护。最后，清除剩余的光阻后，微影制程就完成了。
黄光比白光或其他颜色的光线更为柔和，因此它不太可能在设备或晶圆的表面产生刺眼的反射或眩光。使用黄光可以确保在光刻过程中，颜色敏感的化学品或其他材料的颜色不会受到其他光源的影响或失真。相对于其他光源，黄光对人的眼睛也更为友好，尤其在长时间的操作下，它可以减少眼睛的疲劳和刺激。
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