半导体的生产为什么需要洁净无尘车间呢？由于半导体工业所制作的集成电路元件尺寸越来越小，在一块小小的芯片上，整合了许许多多的元器件，因此在制造的过程中就必须防止外界杂质污染源（包括尘埃、金属离子、各类有机物等），因为这些污染源可以造成元器件性能的劣化及产品成品率和可靠性的降低。所以制造集成电路必须在洁净的环境中进行，以尽量将污染源和硅片隔离。
实际生产中，会对洁净室产生影响的主要因素有温度、湿度、噪音、压差、静电、振动等。
温湿度：一般半导体无尘车间的温度应控制在23±1℃，湿度应控制在45±3%rh。不合适的温湿度都会导致半导体产品的生产质量不达标。
噪声：烦恼效应，语言通讯干扰，影响工作效率，低频噪声影响设备。
压力：正压与负压是相对而言，一个洁净室对大气而言是正压洁净室，但对另外一个房间而言可能是负压洁净室。不同等级的洁净室以及洁净区与非洁净区之间的压差不小于5Pa，洁净区与室外的压差不小于10Pa。
静电：地面的面层应具有导电性能，并应保持长时间性能稳定，采用静电耗散性材料，表面电阻率1◊105Ω- 1◊1012Ω，地面应设有导电泄放措施和接地构造，流动液体，气体或粉体管道应采取防静电接地措施。
振动：精密设备、精密仪器仪表的容许振动值应由生产工艺和设备制造部门提供。振动尤其对光刻设备影响巨大。
对于半导体净化车间来说，一般将半导体生产区的洁净度等级设定为1000级，黄光区的洁净度等级一般为100级，Mask光罩区的洁净等级设为10级。一般通过服装，MAU，FFU及入口的风淋室等控制手段，可有效控制颗粒物的产生，打造符合半导体产品生产需要的洁净环境。
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